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第八百九十四章 封锁IP（第1页）

技术路线既然确认，那么接下来就是如何将其实现了。

王中军作为实验室的负责人，并不需要事无巨细的全面参与进去，更多的还是掌握方向和协调与督促进度。

想通过原子力显微镜来刻画光栅，最大的拦路虎看来就是硅探针的问题了。

既然要求是100纳米分辨率的光栅，那么探针的针尖应该至少在50纳米。

所谓光栅，其实就是一排透明和不透明交替的宽度相等的玻璃片。

它的分辨率，就是一组透明和不透明交替刻痕的总宽度。

如果这一组的宽度是100纳米，那么不透明刻痕的宽度就应该是50纳米。

想划出一条50纳米宽的刻痕，当然就需要50纳米细的针尖了。

“我们所有的要求都集中在这跟探针上面，我们的刻痕是50纳米，但我们的分辨率却不能只有50纳米。”

王中军顶着一头有些散乱的头发，充血的眼睛看起来像是有些睡眠不足，但说话的声音却是中气十足。

他用一支笔，指着幕布上的投影，接着给实验室里的其他研究员布置任务：：“探针材质必须是硅，我们的检材不会是绝对平滑，所以必须确保探针断裂也不会对材料造成污染。”

“它的形状应该是一个梯形，针尖是50纳米宽的平面，也就是500个硅原子的宽度。”

王中军想了想，补充了一句：“之前我认为用针尖直接敲击材料，这个思路是不合适的。

硅敲击硅，我们无法保证探针上的硅完整性，也就是说敲击的宽度是不可预测的。

所以直接敲击材料不合适，我们还需要用探针去除光刻胶，最后通过蚀刻和离子注入来实现光栅。”

“那么我们现在需要解决的就是三个问题，敲击探针、定位探针，以及满足各向异性的蚀刻。”

“敲击探针……老钟，这个就由你来负责。

技术上基于硅的特性，可以先尝试单晶硅生长法。”

“定位探针我来做，这个暂时还没有什么思路。”

“蚀刻和离子注入，我考虑采用干法刻蚀技术，相关的刻蚀机和PVD设备应用与改造……这个我们实验室无法单独完成，秦释你来与相关其他实验室进行对接。”

“咱们实验室分三组，一组跟老钟，一组跟我，秦释你暂时先带一个研究生去做协调工作。”

……

王中军临危不乱，实验室也就有了主心骨。

虽然要跨越式发展技术必然会面临巨大的困难，但一想到这个科研项目背后的意义，所有人的内心中都充满了必须倾力而为的使命感。

钟大华是个老研究员了，从光机所借调到新科之后，虽然没有什么特别突出的贡献，但他经手的每一个实验项目都从来没有出错过。

这五六年里，新科不仅为他涨了工资，而且还帮他把在长春的家人接过来安排了工作又（本章未完，请翻页）